サンプリング ツールセットには、サンプリング位置または集約エリアとして使用されるフィーチャを作成するツールが含まれています。
たとえば、[テッセレーションの生成 (Generate Tessellation)] ツールを実行すると、他のデータの集約に使用できる範囲内に三角形、四角形、または六角形ポリゴンのメッシュが作成されます。 [ランダム ポイントの作成 (Create Random Points)] ツールを実行すると、1 つのデータセットの範囲内で、サンプリング位置として使用できるポイントが作成されます。
ツール | 説明 |
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四角形のセルのフィッシュネットを作成します。 出力はポリライン フィーチャまたはポリゴン フィーチャのいずれかになります。 | |
指定された数のランダム ポイント フィーチャを作成します。 ランダム ポイントは、一定の制限範囲内、ポリゴン フィーチャ内、ポイント フィーチャ上、またはライン フィーチャ上に生成することができます。 | |
包含確率に基づいたサンプル ポイント セットを作成し、空間的にバランス調整されたサンプル設計を生成します。 このツールは、一般的にサンプルを取得する場所を提案することで監視ネットワークを設計する際に使用され、特定の位置に対する優先度の包含確率ラスターを使用して定義できます。 | |
単純無作為、層化、系統 (グリッド)、クラスターの各サンプリング設計を使用して、連続的な分析範囲内にサンプル位置を作成します。 | |
ラインまたはポリゴンに沿ってポイント フィーチャを作成します。 | |
1 つのライン フィーチャまたはライン フィーチャのグループに沿って一連の矩形ポリゴンを作成します。 | |
特定の範囲をカバーするために正多角形ポリゴン フィーチャのテッセレーション グリッドを生成します。 テッセレーションは、三角形、正方形、菱形、六角形、H3 六角形、または六角形 (縦) のいずれかにすることができます。 | |
ラインに沿って一定間隔で垂直横断ラインを作成します。 | |
フィーチャクラスまたはテーブルのレコードを 2 つのサブセットに分割します。1 つはトレーニング データとして使用するサブセット、もう 1 つは出力サーフェスを比較および検証するためのテスト フィーチャとして使用するサブセットです。 |